Объектив Fujifilm XF 8-16mm F2.8 R LM WR

Сверхширокоугольный объектив с фокусным расстоянием, эквивалентным 12–24 мм в формате 35 мм, и постоянной диафрагмой F2.8. Вместе с XF16-55mmF2.8 R LM WR и XF50–140mm F2.8 R LM OIS WR объективы FUJIFILM XF с диафрагмой F2.8 будут охватывать весь диапазон фокусных расстояний, эквивалентных 12–213 мм в формате 35 мм. Предельная четкость изображений по всей площади снимка и максимальная диафрагма F2.8 делают объектив идеальным выбором для съемки пейзажей и архитектуры (благодаря превосходной передаче перспективы), интерьерной съемки в ресторанах и отелях, а также для астрофотосъемки и ночной съемки. 
Объектив FUJINON XF8–16mm F2.8 R LM WR использует все возможности матрицы FUJIFILM X-TransTM CMOS для получения фотографий высочайшего разрешения даже при полностью открытой диафрагме. Благодаря расширенным техническим возможностям объектива и высокой светосиле фотографам удастся точно передать на снимках нужное настроение и атмосферу. Корпус объектива не только легкий, но и прочный. Конструкция обладает пыле-брызгозащитой, а также морозоустойчивостью при температурах до –10 °C, что позволяет использовать объектив для профессиональных съемок. 
Полная линейка объективов FUJINON XF, которая включает 31 модель, в том числе XF200mmF2 R LM OIS WR и XF 1,4 X F2 TC WR, охватывает весь диапазон фокусных расстояний — от телефото до макросъемки.
Объектив XF предназначен для цифровых камер серии X.

Сверхширокоугольный зум-объектив с постоянной диафрагмой F2.8 
Для обеспечения сверхширокоугольного зума 8–16 мм  (эквивалент 12–24 мм в формате 35 мм) при постоянной  максимально открытой диафрагме F2.8 новый объектив оснащен двадцатью элементами в тринадцати группах. В их число входят четыре асферические линзы для уменьшения сферических аберраций и дисторсий, а также шесть низкодисперсионных линз и три сверхнизкодисперсионные линзы для уменьшения латеральной хроматической аберрации. Такая конструкция объектива обеспечивает максимальную разрешающую способность на всей площади снимка при постоянной максимальной диафрагме F2.8. 



Элемент коррекции искажения поля изображения 
С целью коррекции искажений поля изображения, характерных для сверхширокоугольных объективов, объектив оснащен специальным элементом, который настраивается в соответствии с положением зума.

Двойное покрытие Nano-GI
На заднюю поверхность двух передних линз объектива нанесено покрытие Nano-GI, которое устраняет блики и радужные ореолы при съемке в разнонаправленном освещении, обеспечивая высокую четкость снимка.

Бесшумная и быстрая автофокусировка
Фокусировочные линзы управляется линейными моторами, гарантируя быструю и бесшумную автофокусировку. 
 
Усовершенствованная конструкция для съемки в самых различных условиях
Одиннадцать точек герметизации гарантируют пылебрызгозащиту объектива, а также обеспечивают морозоустойчивость конструкции при температурах до –10 °C.  Водоотталкивающее фтористое покрытие на передней линзе предотвращает загрязнения и повышает прочность объектива, что позволяет использовать его в любых условиях. 



Основные технические характеристики XF8–16Fmm2.8 R LM W